• WGL-8晶體電光調製實驗儀
    WGL-8晶體電光調製實驗儀

    WGL-8晶體電光調製實驗儀由電場所引起的晶體折射率的變化│₪•·,稱為電光效應.透過利用典型的LiNbO3晶體橫向電光效應原理的鐳射振幅調製器的使用│₪•·,掌握晶體電光調製的原理和實驗方法;學會用簡單的實驗裝置測量晶體半波電壓│₪•·,電光常數;觀察電光效應引起的晶體光學特性的變化和會聚偏振光的干涉現象;進行鐳射通訊演示實驗╃☁·。

    時間▩•₪:2020-04-06型號▩•₪:WGL-8
  • SGD-2單光子計數實驗系統
    SGD-2單光子計數實驗系統

    SGD-2 單光子計數實驗系統 該實驗系統│₪•·,由單光子計數器│₪•·,半導體制冷系統│₪•·,外光路光學系統│₪•·,光功率指示儀│₪•·,工作軟體等組成╃☁·。系統採用了脈衝高度甄別計數和數字計數技術│₪•·,具有較高的線性動態範圍╃☁·。輸出的數字訊號│₪•·,便於計算機處理│₪•·,為教師做相關教學提供了必要的實驗環境╃☁·。

    時間▩•₪:2020-04-06型號▩•₪:SGD-2
  • XGS-1電子散斑干涉實驗系統
    XGS-1電子散斑干涉實驗系統

    XGS-1 電子散斑干涉實驗系統 電子散斑干涉(ESPI)實驗系統藉助於粗糙表面資訊的攜帶者——散斑來研究物體離面形變│₪•·,是計算機影象處理技術·₪▩₪│、鐳射技術以及全息干涉技術相結合的一種現代光測技術╃☁·。鐳射的高相干性使散斑現象顯而易見│₪•·,採用CCD攝像機│₪•·,使之可採用計算機處理資料和影象╃☁·。電子散斑干涉應用廣泛│₪•·,如物體形變測量·₪▩₪│、無損測量·₪▩₪│、振動測量等╃☁·。

    時間▩•₪:2020-04-06型號▩•₪:XGS-1
  • XGS-2鐳射散斑照相實驗裝置
    XGS-2鐳射散斑照相實驗裝置

    XGS-2 鐳射散斑照相實驗裝置 利用二次曝光散斑圖進行物體表面面內位移場的測試│₪•·,以及由此引伸出來的應變│₪•·,距離│₪•·,速度測試│₪•·,物體內在缺陷和振動分析是散斑效應有前途的應用領域╃☁·。 實驗內容 1·₪▩₪│、拍攝自由空間散斑和成像散斑圖│₪•·,瞭解鐳射散斑現象及其特點 2·₪▩₪│、掌握二次曝光散斑圖的逐點分析和全場分析測物體面內位移的方法

    時間▩•₪:2020-04-06型號▩•₪:XGS-2
  • XGS-3電子及鐳射散斑實驗系統
    XGS-3電子及鐳射散斑實驗系統

    XGS-3 電子及鐳射散斑實驗系統 本實驗包括鐳射散斑照相和電子散斑干涉兩部分╃☁·。利用二次曝光散斑圖進行物體表面面內位移場的測試│₪•·,以及由此引伸出來的應變·₪▩₪│、應力場測試·₪▩₪│、距離·₪▩₪│、速度測試·₪▩₪│、物體內在缺陷和振動分析是散斑效應有前途的應用領域╃☁·。

    時間▩•₪:2020-04-06型號▩•₪:XGS-3
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